一种基于集成电路制程关键参数的移轴光学检测组件技术,该技术能够在266-825nm波段,观察及监测腔体内不垂直于观察轴的液滴形态、分布、沉积速度等重要的半导体制程参数,并具有长工作距及超短镜头长度及可转折光路等特点,同时拥有低杂光、宽容差、可产业化生产等特性。
更新时间:2023-04-04
所属领域
装备制造项目类型
制造业项目年份
2023项目状态
可产业化合作方式
其它一种基于集成电路制程关键参数的移轴光学检测组件技术,该技术能够在266-825nm波段,观察及监测腔体内不垂直于观察轴的液滴形态、分布、沉积速度等重要的半导体制程参数,并具有长工作距及超短镜头长度及可转折光路等特点,同时拥有低杂光、宽容差、可产业化生产等特性。
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